河北潔凈車間的溫度和濕度控制問題。 潔凈車間的溫度和濕度主要根據(jù)工藝要求確定，但在滿足工藝要求時(shí)應(yīng)考慮人員的舒適度。 隨著空氣清潔度要求的增加，趨勢是該方法對(duì)溫度和濕度的要求越來越嚴(yán)格。

特定過程的溫度要求將在后面列出，但是作為一般原則，隨著加工精度越來越高，對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求也越來越小。 例如，在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，要求玻璃和作為掩模材料的硅晶片的熱膨脹系數(shù)之間的差越來越小。 當(dāng)溫度升高1度時(shí)，直徑為100 um的硅晶片將引起0.24 um的線性膨脹。 因此，它必須具有±0.1度的恒定溫度。 同時(shí)，通常要求濕度值低。 這是一個(gè)怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不應(yīng)超過25度。

濕度過大會(huì)導(dǎo)致更多問題。 當(dāng)相對(duì)濕度超過55％時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)發(fā)生冷凝。 如果發(fā)生在精密設(shè)備或電路中，會(huì)引起各種事故。 相對(duì)濕度為50％時(shí)容易生銹。 另外，如果濕度過高，則附著在硅晶片表面上的塵埃會(huì)被空氣中的水分子化學(xué)吸附在表面上，難以除去。 相對(duì)濕度越高，附著力就越難去除，但是當(dāng)相對(duì)濕度低于30％時(shí)，由于靜電力的作用，顆粒也很容易吸附在表面上，并且存在大量的半導(dǎo)體器件。 容易發(fā)生故障。 硅片生產(chǎn)的溫度范圍是35-45％